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    日本filmetrics膜厚测量系统

    产品时间:2025-05-14

    访问次数:947

    简要描述:

    日本filmetrics膜厚测量系统F20
    一种行业标准、低价、多功能的台式薄膜厚度测量系统,已在全球安装了 5,000 多台。它可用于从研发到制造现场在线测量的广泛应用。
    F20基于光学干涉法可在1秒左右轻松测量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系数。

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    日本filmetrics膜厚测量系统F20

    1

    主要特点

     

    • 支持广泛的膜厚范围(1 nm 至 250 μm)

    • 支持宽波长范围(190nm 至 1700nm)

    • 强大的膜厚分析

    • 光学常数分析(折射率/消光系数)

    • 紧凑的外壳

    • 支持在线测量

    一种行业标准、低价、多功能的台式薄膜厚度测量系统,已在全球安装了 5,000 多台。它可用于从研发到制造现场在线测量的广泛应用。
    F20基于光学干涉法可在1秒左右轻松测量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系数。
    它还支持多点在线测量,并支持RS-232C和TCP/IP等外部通讯,因此可以通过PLC或上位机进行控制。

    主要应用

    平板半导体光学镀膜薄膜太阳能电池医疗的
    单元间隙、聚酰亚胺、ITO、AR膜、
    各种光学膜等。
    抗蚀剂、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
    防反射膜、硬涂层等
    CdTe、CIGS、非晶硅等
    砷化铝镓(AlGaAs)、磷化镓(GaP)等
    钝化、药物涂层等

    产品阵容

    模型F20-UVF20F20-近红外F20-EXRF20-UVX测量波长范围膜厚测量范围性*测量光斑直径光源





    190 – 1100nm380 – 1050nm950 – 1700nm380 – 1700nm190 – 1700nm
    1nm – 40μm15nm – 70μm100nm – 250μm15nm – 250μm1nm – 250μm
    ± 0.2% 薄膜厚度± 0.4% 薄膜厚度± 0.2% 薄膜厚度
    1纳米2纳米3纳米2纳米1纳米
    支持高达1.5 毫米或 0.5 毫米
    小 0.1 毫米(可?。?/span>

    氘·

    卤素

    卤素

    氘·

    卤素

    * Filmometry 提供的测量 Si 基板上的 SiO2 膜时器件主体的精度。

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