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    日立高新磁控溅射器

    产品时间:2025-05-15

    访问次数:1763

    简要描述:

    日立高新磁控溅射器
    采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件
    可处理较厚或较大的样品(选配件)
    记忆功能可存储常用加工条件

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    日立高新磁控溅射器MC1000

    日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。

    • 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品直径:60 mm

    • 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的样品高度:20 mm

     日立高新磁控溅射器

    特点:

    • 采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件

    • 可处理较厚或较大的样品(选配件)

    • 记忆功能可存储常用加工条件

    规格:

    日立科学仪器有限公司为您提供日立高新磁控溅射器MC1000的参数、价格、型号、原理等信息,日立高新磁控溅射器MC1000产地为日本、品牌为日立,型号为MC1000,价格为面议,更多相关信息可,公司客服电话7*24小时为您服务


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